新型EUV光刻机技术横空出世，国产光刻机压力山大

denUycof

近年来，国产光刻机从无到有，从有到精。目前国内已能生产制造28nm芯片的国产光刻机，只管技术仍有待进步，但毕竟实现了国产化，在以后的日子里，经过打磨进步，仍有盼望在光刻机巨头ASML的碗里分一杯羹。
; J' D- m7 W! d1 W9 {$ y然而，我们在进步，别人也在进步。最近，ASML的合作伙伴、欧洲芯片实验室IMEC研发出新型EUV光刻机技术，这项先辈技术对于发展5nm和3nm的光刻机有紧张作用。
据相识，光刻机技术从DUV技术发展到EUV技术，带来了很多方面的革新，光刻机需要高性能的光源，而激光器的技术程度非常关键。
: y# G8 t9 Q* w& f$ UIMEC实验室已经研发出当前开始进的激光器，这种装备可以发出高次谐波光源，且无需蔡司镜头即可成像，IMEC实验室这次探索意义在于为人们提供了一个新的参考——高次谐波光刻技术。
早在去年，IMEC实验室就向世人表态了他们研发的3nm工艺的芯片晶圆。这对于国产光刻机而言，压力山大。
  s$ s+ e, T; e0 w8 K对于新型光刻机横空出世，你以为是否给国产光刻机带来压力？欢迎留言到场讨论！

$ N1 _& t1 p2 ~6 Q5 m+ c来源：https://www.toutiao.com/a6671871470362165774/
* [+ j6 @- \3 h) r8 ^1 b免责声明：如果侵犯了您的权益，请联系站长，我们会及时删除侵权内容，谢谢合作！