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3 月 24 日,北京科技大学新材料技术研究院、北京材料基因工程高精尖创新中心的研究团队设计一种新型的层状结构材料,采用一种简单的溶液外延生长方法,获得超薄(低至 1nm)铋氧化物薄膜,并稳定呈现出高的宏观铁电性能。研究成果以 "Ferroelectricity in layered bismuth oxide down to 1 nanometer" 为题发表在Science上。+ m Y1 ]3 x) q0 R
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