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文 | 华商韬略 幼清; ]) o7 z4 x' \ I
说起芯片技术,除了屡屡被提到的光刻机,第二重要的便是“刻蚀机”。
& r, k- Q0 {; C7 l" E刻蚀机是什么?芯片生产主要有五个核心步骤,排在前两位的,便是光刻和刻蚀。4 o/ v( ~' u, T
如果说从硅片到芯片的过程是“剪窗花”,光刻机便是画花样的铅笔,刻蚀机就是沿着花样剪出花纹的剪刀。
0 R4 O; O$ K7 p0 S& V# D; Z) c刻蚀机为何重要?刻蚀机和光刻机一样,都是芯片生产线上的重要设备,缺一不可,无可取代。
' B: Q1 q! F2 ~# ~4 ]- y3 ]8 q+ L6 Y而来自美国和日本的三家巨头企业,掌控了刻蚀机的市场份额,占比一度高达94%。中国每年进口的芯片总额超过2000亿美元,超过了原油。
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1 s1 {. [) U" B# P' Q更严重的是,如今的芯片面临的困难正转变为“买无可买”。众所周知,近年来美国等国家对中国的芯片封锁愈发严重,包括华为在内的许多国企都将面临“无芯片可用”的困境。& v% ~) W' Q, B( i
中国刻蚀机的发展,离不开被誉为“中国刻蚀机”第一人的尹志尧。2 U# J9 g9 O% b/ g* T+ s! z
2004年,曾为美国芯片制造装备研发领域资深专家的尹志尧回到中国,与数十位半导体华裔专家共同创业,放弃了美国千万年薪的工作。彼时的他,已年过六十。
% u1 U5 m8 e9 S4 {成立中微半导体后,尹志尧团队仅用了几年时间,就造出了第一台完全由我国自主研发的等离子体刻蚀机。
6 v; ~$ n3 W2 Z0 d/ d1 A& p$ V3 I到2007年,中微推出可用于65至16纳米制芯片制造的等离子体刻蚀机。而目前,据尹志尧透露,中微研发的等离子刻蚀设备已经进入客户的5纳米生产线。发展速度可见一斑。
+ c" p( D: F' L取得众多成就的同时,中微也遭受着领域空白、巨头打压、地缘政治等多重困难:2007年,应用材料公司将中微告上了美国法庭;2009年,美国泛林半导体在中国台湾状告中微专利侵权......
! G8 Z6 E. V& k3 J' z) H9 B+ a而这些困难,都被中微一一化解。截至目前,中微半导体已申请了1200多项专利技术。
, W/ G1 {* ?- ?除了中微,“北方华创”近年来也迅速崛起,有关其的最新报道“北方华创正式发布CCP介质刻蚀机 完成刻蚀领域最后一块拼图”非常振奋人心,让国人看见了中国芯片行业的希望。( j7 s7 v3 v& C& Y' E; r6 X+ K, U
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' D4 u$ u$ X G9 ~8 b, U5 h尹志尧对中国刻蚀机的发展意义非凡,但如何能迎来更多“尹志尧”?对于人才的紧缺,尹志尧本人也不禁发出疑问:“我们有着世界上最多的大学毕业生,却找不到几个半导体可用人才,实在说不过去,我们的人才都哪儿去了?”6 R N1 G4 G1 p3 D, M( j# D" q4 {1 g
人才紧缺一直是技术卡脖子的重要原因,而为了让“芯片卡脖子”成为历史,首先要加强对国内人才的培养和储备,例如加大高校芯片相关产业和基础学科的招生人数。5 X* O0 K; b: s8 G0 L
而对于国外人才,则应加强高端人才的引进,营造良好、稳定的工作环境。
& h( L/ s [$ ^随着一份份财报中显示的芯片行业研发前景明朗、“科创板”等相关扶持政策不断出台,相信人才方面的空缺被填补后,中国芯片也将像中国刻蚀机一样,自主创新,不受制于人。
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