|
|
不久前,台积电官方宣布了 6nm(N6)工艺节点,在已有 7nm(N7)工艺的基础上增强而来,号称可提供极具竞争力的高性价比,而且能加速产品研发、量产、上市速度。台积电 CEO 兼副董事长魏哲家(CC Wei)最新披露,绝大多数 7nm 工艺客户,都会转向 6nm 工艺,使用率和量产产能都会迅速扩大。
. b) U3 u+ B- Q6 }" W3 [9 \* R 3 [7 N- `, j! A) c5 M" c8 t
考虑到6nm工艺沿用了7nm工艺的设计规则,升级迁移还是相当容易的,成本增加不大,性能功耗方面又有提升(虽然不会特别明显),客户自然也乐得上新工艺,看起来这代工艺会相当流行。
f! J& q2 L1 k. d! L2 M" a台积电现在的7nm工艺有两个版本,第一代7nm(N7)采用传统DUV光刻技术,第二代7nm+(N7+)则是首次加入EUV极紫外光刻,已进入试产阶段,预计下一代苹果A、华为麒麟都会用,2019年两者合计可贡献大约25%的收入。: W. W. x- Y6 Y! x7 u: r5 I
台积电2020年第1季量产6纳米制程,与三星竞争白热化7 R' r ^* g- o- U/ v: ^7 O$ ?
新的6nm工艺也有EUV极紫外光刻技术,相比7nm+(N7+)增加了一个极紫外光刻层,同时相比7nm(N7)可将晶体管密度提升18%,而且设计规则完全兼容7nm(N7),便于升级迁移,降低成本,相比之下7nm+(N7+)则是另一套设计规则。
+ D0 E9 P G! R7 f4 j据台积电介绍,新的6nm工艺将对现有的7nm技术进行重大改进,同样拥有极紫外光刻(EUV)工艺,他们利用了7nm到7nm EUV工艺的经验及技术,令到N6工艺的逻辑密度提升了解18%,设计方法与7nm工艺完全兼容,所以可以快速过渡到N6工艺上的,上市时间更快。结合早前媒体报导,台积电将在今年第二季度末开始7nm EUV工艺量产,和首批搭载该工艺的有华为麒麟985以及Apple A13处理器。
1 e1 f* b; ^6 k3 q, L7 U8 y1 p台积电6nm预计2020年第一季度试产,再往后的5nm工艺也已经开始试产,号称相比于第一代7nm晶体管密度提升45%,可带来15%的性能提升或20%的功耗下降。6 p( x0 U& I ]) ^# |
台积电进一步指出,延续7 纳米家族在功耗及效能上的领先地位,支援多样化的产品应用,包括高阶到中阶行动产品、消费性应用、人工智慧、网通、5G 基础架构、绘图处理器以及高效能运算。台积电预估, N6 技术预计于2020 年第1季进入试产,提供客户更多具成本效益的优势。7 Z* Y" T7 m& F- } \3 y
台积电业务开发副总经理张晓强表示,台积电的N6 技术将会比目前的N7 进一步延续台积电的领先地位,提供客户更高的效能与成本效益。另外,台积电建立于在7 纳米技术广泛成功的基础之上,使得台积电深具信心使客户也能够藉由现今完备的设计生态系统,迅速的从此项新技术之中获取更高的产品价值。
' @0 C: k0 e3 f) `0 B b/ r此外,台积电之前已经宣布5nm制程已经完成研发。这样看来,6nm和5nm都有可能被应用到2020年Apple的A14系列处理器中。而目前,三星也发布新闻稿宣布,完成极紫外光刻(EUV)技术的5nm制程研发,看来全球芯片代工市场的竞争将越来越激烈了。* E/ Q* B3 r( J7 h" P5 e
根据三星官网介绍,三星电子已经成功完成5nm EUV开发,以实现芯片的更大面积扩展和带来超低功耗。三星电子称,其5纳米(nm)FinFET工艺技术的开发已经完成,现在可以为客户提供样品。通过在其基于极紫外(EUV)的工艺产品中添加另一个尖端节点,三星称再次证明了其在先进晶圆代工市场的领导地位。. W3 b e. o) @/ C# o/ p) ?
与7nm相比,三星的5nm FinFET工艺技术将逻辑区域效率提高了25%,功耗降低了20%,性能提高了10%,从而能够拥有更多创新的标准单元架构。: c/ |) L3 @) r K2 X" e# z! |
三星称,5nm的另一个主要优点是可以将所有7nm知识产权(IP)重用到5nm。因此,7nm客户过渡到5nm将极大地受益于降低的迁移成本,预先验证的设计生态系统,从而缩短他们的5nm产品开发时间。% G/ v. Y+ s+ y& ]! y+ I
“成功完成5nm开发,我们已经证明了我们在基于EUV的节点中的能力,”三星电子铸造业务执行副总裁Charlie Bae说。“为响应客户对先进工艺技术不断增长的需求,以区分其下一代产品,我们继续致力于加速基于EUV技术的批量生产。”# d. n& R' c6 U4 Q5 |
2018年10月,三星宣布准备并初步生产7nm工艺,这是其首个采用EUV光刻技术的工艺节点。该公司已提供业界首批基于EUV的新产品的商业样品,并于今年初开始量产7nm工艺。* b+ R# x. t- m4 E
此外,三星正在与6nm的客户合作,这是一个定制的基于EUV的工艺节点,并且已经收到了其首款6nm芯片的流片产品。, `; x/ F0 [2 l. x$ W
三星代工厂基于EUV的工艺技术目前正在韩国华城的S3生产线上生产。此外,三星将把其EUV产能扩大到华城的新EUV生产线,该生产线预计将在2019年下半年完成,并从明年开始增产。
$ u$ l! O3 ]) a* S* c8 p/ q*免责声明:本文由半导体行业观察转载,仅为了传达一种不同的观点,不代表半导体行业观察对该观点赞同或支持,如果有任何异议,欢迎联系半导体行业观察。
4 a* C) J) l& W0 t今天是《半导体行业观察》为您分享的第1917期内容,欢迎关注。- [4 c, a( {; g2 C
2018半导体行业资料合集 长期有效!, k9 |9 E9 J( @, P& S1 ?
半导体行业观察* d2 K8 l6 Y: [9 L
『半导体第一垂直媒体』
4 W( s7 F' k: S2 F3 U7 L! e Q8 N1 Q实时 专业 原创 深度! Y0 c! F6 v0 U0 L$ p' _( R
) w" n/ }/ e4 D; }& u0 n- t
识别二维码,回复下方关键词,阅读更多8 }$ d3 b% O0 L1 `! g
科创板|OLED|开源|射频|5G|氮化镓|展会|VCSEL9 }: e, n# d; I, F' `; U3 Y
" @* c0 [/ |# @回复 投稿,看《如何成为“半导体行业观察”的一员 》
( b- Z6 V h( x( h. S' d9 i) P, _, P( g1 g
回复 搜索,还能轻松找到其他你感兴趣的文章!( R3 Z3 Z- D, B' T# P- J/ K
: P+ I. b6 b1 R! |来源:http://www.yidianzixun.com/article/0LtXfmb1& v" U8 I: N" |; M
免责声明:如果侵犯了您的权益,请联系站长,我们会及时删除侵权内容,谢谢合作! |
本帖子中包含更多资源
您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?立即注册
×
|