|
财联社 3 月 9 日讯(编辑 潇湘)荷兰政府在当地时间 3 月 8 日发布了有关即将出台的半导体设备出口管制措施的进一步信息。这些新的出口管制措施侧重于先进的芯片制造技术的管控,包括 " 最先进 " 的沉积设备和浸没式 DUV 系统。
1 _" n# q+ X: j( Y* Q此举意味着荷兰方面已将光刻机出口管制的范围,而且由最先进的极紫外光刻机 ( EUV ) 扩大到了 DUV(深紫外光光刻机)。不过,由于 DUV 光刻机中的浸没式光刻机分很多种型号,在荷兰政府的声明发布后," 最先进 " 的沉积设备和浸没式 DUV 系统究竟涵盖哪些范围,成为了今日国内外芯片行业热议的焦点。7 i% v% f8 |7 F( k$ f
荷兰光刻机巨头阿斯麦 ( ASML ) 的最新公告,对此给出了答复。, J& d. v' j2 B! {+ I
ASML 在最新公告说明中称,受荷兰政府这些即将出台的法规所限,ASML 将需要申请出口许可证才能发运最先进的浸没式 DUV 系统。不过,这些管制措施需要一定时间才能付诸立法并生效。
9 R) a, q* p$ t ?
8 U! \. x4 m; D, ~, R+ t; p/ b! ]4 ?
+ R8 U: Z' H5 P( N# |对于最新的出口管制措施涵盖哪些设备,ASML 解释称,需要重点指出的是:新的出口管制措施并不针对所有浸没式光刻系统,而只涉及所谓 " 最先进 " 的浸没式 DUV 系统。
6 G' u/ B6 a; C1 a$ r0 w! v3 aASML 表示," 尽管我们尚未收到有关 " 最先进 " 的确切定义的信息,但我们将其解读为我们在资本市场日会议上定义的 " 关键的浸没式光刻系统 " ——即 TWINSCANNXT:2000i 及后续推出的浸没式光刻系统。"
# p% X0 G. T& Z" P2 V; `仍留有一道口子; C' B" S4 f2 `& ]& t! V) Y
根据 ASML 公司官网提供的信息,该公司目前在售的主流浸没式 DUV 光刻机产品共有三款,分别是:TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
4 {# |# S8 \- k! h0 u$ R
1 L3 G. b/ {4 b3 N% f; o8 N
* P+ y" q, q* |+ | {# k- s" h1 S9 P' z: N' `+ a
其中,2000i 和 2050i 这两款显然是 ASML 公司在声明所指的出口管制 " 先进 " 产品,而相对最落后的那一款 TWINSCAN NXT:1980Di,则有望被排除在出口管制措施以外。
" F0 A" y0 \0 M/ K! m/ G那么,TWINSCAN NXT:1980Di 光刻机,其功能性又是否能够满足目前大量芯片企业的需求呢?" Q2 t5 D9 p1 W& j: ^" _$ g
根据 ASML 官网的介绍,TWINSCAN NXT:1980Di 的分辨率可以达到 ≤38nm,每小时可以至少生产 275 片晶圆。
$ O1 e U8 n# t, M
5 S5 J/ k8 b7 A1 C% u( R b. a, o& X9 R0 O9 `" p
. g9 s% J: R4 l8 ~
在实际生产和使用中,通过多重曝光,TWINSCAN NXT:1980Di 依然可以支持到 7nm 左右的工艺生产,当然相比于更先进的光刻机型号,其在生产先进工艺时的步骤将更为复杂,成本将更高,良率可能也会有损失。7 T' m. v& N( N2 g+ Y6 `' w6 m
全球晶圆厂在使用 1980Di 光刻机型号时,大多是生产 14nm 及以上工艺的芯片,很少去生产 14nm 以下的工艺。但可以肯定的是,用这一台 TWINSCAN NXT:1980Di 光刻机,生产 28nm、14nm 仍能完全满足需要。这预示着目前就已大量采用 NXT:1980Di 进行成熟制程制造的晶圆厂将不会受到明显影响,但在先进工艺方面,可能难以完全满足需求。3 ^$ ^, _( l! Z% V
ASML 在公告中也表示,先进程度相对较低的浸没式光刻系统,已能很好满足成熟制程为主的客户的需求。
6 g8 t3 j2 |" b5 }/ P国内券商的一则短评亦验证了上述判断。东方证券认为,中国 10nm 及更成熟制程光刻机的进口并不受本次限制影响。ASML 申明该限制并不是针对所有浸没式光刻机,而是仅针对其中的最先进制程设备,即 NXT 2000i 及更先进机型。NXT 2000i 最小工作制程为 7nm,而未被禁运的 NXT 1980i 等设备仍可支持最低至 10nm 的芯片生产。也就是说,荷兰实际实施的禁运措施比美国去年 10 月的芯片管制新规更加宽松,当时发布的管制新规禁运美国 14nm 及以下设备。- V P& C, y8 X6 R
ASML 指出,基于今日的公告、公司对荷兰政府许可证政策的预期以及当前的市场形势,公司预计这些管制措施不会对我们已发布的 2023 年财务展望,以及公司的长期展望产生重大性影响。
2 }3 s. E; C9 M0 \! j3 j荷兰出口管制新规争议重重
! a; e. }6 L5 ] q+ [/ X! k荷兰政府的最新出口管制措施,是在荷兰贸易部长 Liesje Schreinemacher 本周在致荷兰议会的一封信中宣布的。信中称,这些管制措施将在今天夏天之前开始实施。+ C1 R' ]+ u$ h7 a7 z! D
浸没式光刻机目前被业界广泛应用在 45nm 及以下的成熟制程当中,全球仅有 ASML 和日本尼康两家公司生产。ASML 此前曾预计,2023 年在中国的销售额将保持在 22 亿欧元左右。% }- s& P/ o5 \& V7 j6 b
早在今年 1 月底,就有媒体爆料称,美国已与荷兰和日本达成协议,限制向中国出口一些先进的芯片制造设备。该协议将把美国 10 月份通过的一些出口管制扩大到这两个国家的企业。' p- ^! ?% E- m8 O' r- y
对此,1 月 31 日中国外交部发言人毛宁在主持例行记者会时曾回应称," 我想再次强调的是,个别国家出于一己私利,不惜损友自肥,恶意封锁和打压中国企业,人为推动产业转移脱钩,有关霸凌霸道行径严重破坏市场规则和国际经贸秩序,不仅损害中国企业的合法权益,也冲击全球产供应链的稳定。我们希望各方秉持客观公正立场,从自身长远利益和公平公正市场原则出发,独立自主地作出决定。"
% }2 b( P# Q% ~; d7 G) T2 月 15 日,就美日荷限制向中国出口相关芯片制造设备,中国半导体行业协会也曾严正声明:中国半导体行业协会反对这一破坏现有全球半导体产业生态的行为。反对这一干涉全球贸易自由化、扭曲供需关系和供需平衡的行为。反对这一试图将中国半导体产业排除在全球产业体系及市场自由竞争之外的行为!( \- v$ H l. q `. T7 I; ?
美国亿万富豪、微软创始人比尔 · 盖茨本月早些时候在接受采访时则表示,美国试图阻止中国研发芯片的努力是徒劳的。美国的做法只会 " 迫使 " 中国花时间和金钱来制造自己的芯片," 美国永远无法成功阻止中国拥有强大的芯片 "。 |
本帖子中包含更多资源
您需要 登录 才可以下载或查看,没有账号?立即注册
×
|